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Tieftemperatur-Nahfeldmikroskop

3.3 Monolagenaufl ¨osung der Topographie

4.1.1 Niederdimensionale Halbleiterstrukturen

Die Bewegung eines freien Elektrons der Massem0 wird durch die Schr ¨odinger-gleichung

h¯

2

2m02ψ~k =E(~k~k (4.1) beschrieben. Die L ¨osungen von Gl. 4.1 sind ebene Wellen der Form ψ~k(~r) =

1

L3ei~k·~r mit der Energie

E(~k) = ¯h

2

2m0

(k2x+k2y+k2z). (4.2)

ψ~k(~r) = √1

Die funktionale Abh¨angigkeit der EnergieeigenwerteE~k = E(~k)wird als Disper-sionsrelation und die graphische AuftragungE = f(~k)als Bandstruktur bezeich-net. Der Punkt~k = 0 wirdΓ-Punktgenannt. Die Abh¨angigkeit der Teilchenener-gie vom Wellenzahlvektor unterscheidet sich meist erheblich von der freier Elek-tronen (Gl.4.2). Oft kann man aber an den Extremalpunkten in der Bandstruktur eine parabolische N¨aherung der Dispersion vornehmen, und man erh¨alt ad¨aquat zu Gl.4.2

E(~k) = ¯h

2k2

2m, (4.5)

wobei die Masse des freien Elektrons durch die effektive Masse des Elektrons im Kristall m ersetzt wurde. Die effektive Masse ist sozusagen der Anpassungspa-rameter der Energieparabel an den realen Bandverlauf. Durch einen Analogie-schluss bei Betrachtung der Bewegungsgleichung(en) eines Elektrons kann man zeigen, dass allgemein gilt:

In Halbleitern wie GaAs (Zinkblendestruktur) ist das Valenzband dreifach auf-gespalten in ein Band schwerer L ¨ocher (engl. heavy holes, hh), ein Band leich-ter L ¨ocher (light holes, lh) sowie ein Split-off-Band. Die Unterteilung in schwere und leichte L ¨ocher r ¨uhrt von der unterschiedlichen Kr ¨ummung der B¨ander her (vgl. Gl. 4.6). In kubischen Materialien sind leichte und schwere L ¨ocher am Γ -Punkt entartet, wohingegen dasSplit-off-Band durch die Spin-Bahn-Aufspaltung um einen Energiebetrag∆soabgesenkt ist.

Die Beschr¨ankung der Bewegungsfreiheit der Elektronen im Kristall in ein, zwei oder drei Dimensionen durch entsprechende Potenzialbarrieren f ¨uhrt zu neu-en Quantisierungseigneu-enschaftneu-en der Elektronneu-en. Je nach Anzahl der verbleibneu-en- verbleiben-den Freiheitsgrade unterscheidet man Quantenfilme (engl. quantum well, QW,

1F ¨ur die Bewegung von L ¨ochern gelten die gleichen Beziehungen, nur dass die Masse me

durchmhund die Ladungqedurchqh=qeersetzt werden muss.

2-dimensional), Quantendr¨ahte (engl. quantum wire, QWR, 1-dimensional) und Quantenpunkte (engl.quantum dot, QD, 0-dimensional).

Niederdimensionale Systeme k ¨onnen mit Hilfe von Halbleitermaterialien unter-schiedlicher Bandl ¨ucke realisiert werden. Ein Quantenfilm entsteht dadurch, dass in einer Heterostruktur ein schmall ¨uckiger Halbleiter zwischen zwei breitl ¨ucki-gen eingebaut ist: HL1–HL2–HL1 mit Eg1 > Eg2. Solche Strukturen wurden zu-erst von Dingle et al. realisiert [54]. Um eine Quantisierung zu erreichen, muss die DickeLzdes Quantenfilms in der Gr ¨oßenordnung der de Broglie-Wellenl¨ange der Ladungstr¨ager liegen. Zweidimensionale Ladungstr¨agersysteme k ¨onnen sich aber auch an der Grenzfl¨ache zweier verschiedener Halbleiter ausbilden (sog. In-versionsschichten mit asymmetrischem, dreieckigem Potenzial).

Zur Herstellung von Quantendr¨ahten des Materialsystems GaAs/(Al,Ga)As be-dient man sich oft der Technologie des ¨Uberwachsens von strukturierten Sub-straten mit Quantenfilmen. Zum Beispiel entsteht im Scheitel eines V-f ¨ormigen Grabens eine Verdickung des Quantenfilms auf Grund der langsameren Wachs-tumsgeschwindigkeit an den Seitenfl¨achen [55]. Eine weitere M ¨oglichkeit ist das Wachsen des Quantenfilms ¨uber in das Substrat ge¨atzte Stufen, wobei auch hier Unterschiede in der Wachstumsgeschwindigkeit ausgenutzt werden [6]. In Ab-schnitt 4.3 wird auf die Einzelheiten dieser speziellen Variante eingegangen, da entsprechende Systeme im Rahmen dieser Arbeit untersucht wurden.

Quantenpunkte k ¨onnen in epitaktischen Schichten entstehen, wenn die Verspan-nung des Materials zu einem 3-dimensionalen Inselwachstum f ¨uhrt, dem Stranski-Krastanov-Modus [56]. Die entstehenden pyramidalen Strukturen bil-den ein quasi 3-dimensionales Einschlusspotenzial f ¨ur die Elektronen. Auch Wachstumsinseln in Quantenfilmen k ¨onnen als Quantenpunkte angesehen wer-den, wenn ihr Einschlusspotenzial hoch genug ist.

Bei der Berechnung der Wellenfunktionen in Heterostrukturen wird in den mei-sten F¨allen von der Methode der Effektivmassenn¨aherung Gebrauch gemacht.

Darunter ist zu verstehen, dass nur die Zust¨ande im Minimum des Leitungs-oder Maximum des Valenzbandes betrachtet werden. Die effektive Masse, die die Ladungstr¨ager in diesen Extremalpunkten nach Gl. 4.6besitzen, wird damit in dem jeweiligen Halbleitermaterial als konstant angenommen. Mit den jeweili-gen Leitungs- und Valenzbandkanten wird der Potenzialverlauf in der Struktur gekennzeichnet.

Definiertzdie Richtung der Quantisierung in einem Quantenfilm, so hat die Wel-lenfunktion des Elektrons die Form

ψ~2D

k,nz(~r) = p 1 LxLy

eikxxeikyyφnz(z)u~k(~r). (4.7) Der abseparierte Anteil φnz(z) (Enveloppenfunktion) stellt eine stehende Welle zwischen den Potenzialbarrieren mit einem diskreten Energiespektrum dar:

E2Dnz (kx,ky) = ¯h

2(k2x+k2y)

2m +Enz. (4.8)

ψ0Dn

x,ny,nz(~r) = ηnx(x)χny(y)φnz(z), E0Dnx,ny,nz = Enx +Eny +Enz.

(4.10) Bei Quantenpunkten liegt anstelle von Subb¨andern ein Spektrum von diskreten Energieniveaus vor (

’k ¨unstliches Atom‘).

Die Quantisierungsenergien lassen sich f ¨ur den einfachen Fall eines rechtecki-gen Potenzialverlaufs mit unendlich hohen Barrieren (Randbedingunrechtecki-gen: ψ ≡ 0;ψ0 ≡0) wie folgt angeben:

Eni = π

2¯h2

2mL2in2i , i =x,y,z. (4.11) Der reale Fall endlich hoher Potenzialbarrieren hat zur Folge, dass sich die Wel-lenfunktionen in die Barriere hinein erstrecken. Die Berechnung der Energienive-aus wird demnach auch abh¨angig von den Materialeigenschaften der Barriere (z.

B. von der effektiven Masse, die die Elektronen darin besitzen). Im Realfall sind die EnergienEni geringer als durch Gl.4.11beschrieben.

4.1.2 Exzitonen

Die Anregung eines Elektrons aus dem Valenzband eines Halbleiters in das Lei-tungsband l¨asst ein Defektelektron oder kurz Loch im Valenzband zur ¨uck. Da das Loch eine positive Ladung tr¨agt, unterliegen beide einer attraktiven Wech-selwirkung. In diesem attraktiven Potenzial k ¨onnen sich gebundene Zust¨ande bilden. Derartige Zust¨ande werden Exzitonen genannt2.

Die Beschreibung eines Exzitons kann in Analogie mit dem quantenmechani-schen Problem des Wasserstoffatoms erfolgen. Die Schr ¨odingergleichung zur Be-schreibung der Bindungszust¨ande, ber ¨ucksichtigt, dass sich das Exziton im Festk ¨orper mit einer gewissen Dielek-trizit¨atskonstanteb und einer Bandl ¨ucke Eg befindet.~R bezeichnet die Relativ-koordinate, meh ist die reduzierte effektive Masse des Elektron-Loch-Paares. In

2Grundlegende Arbeiten zur Elektron-Loch-Wechselwirkung wurden von Frenkel [57] und Peierls [58] geleistet. Der BegriffExzitonwurde von Frenkel 1936 gepr¨agt [59].

Analogie zum Wasserstoffatom findet man die Energieeigenwerte wer-den. Je nach Gr ¨oße des Exzitonenradius unterscheidet man Frenkel-Exzitonen, deren Ausdehnung kleiner ist als die Gitterkonstante, und Wannier-Mott-Exzitonen, die sich ¨uber mehrere Gitterkonstanten erstrecken. Frenkel-Exzitonen werden z. B. bei angeregten Zust¨ande im Ionenkristall gebildet. Dagegen sind Wannier-Mott-Exzitonen eine typische Erscheinung in Halbleitern. In GaAs mit b =13, 2, Masse des Elektrons amΓ-Punktme = 0, 067m0 und Masse des Lochs mhh = 0, 5m0sind Reh ≈ 5 meV,aeh ≈ 10 nm. Wegen ihrer geringen Bindungs-energie sind Exzitonen in GaAs nur bei tiefen Temperaturen nachweisbar. Das

¨andert sich jedoch drastisch f ¨ur den Fall niederdimensionaler Systeme. Zum Bei-spiel ist der Grundzustand f ¨ur den Fall eines

’zweidimensionalen Wasserstof-fatoms‘auf Grund E2Dn = Eg− Reh/(n−12)2 um Faktor 4 gr ¨oßer (n = 1); der Bohrradius ista2DB =0, 5×a3DB .

F ¨ur Exzitonen in einem Quantenfilm kann man zeigen [60], dass die L ¨osungen der Gl.4.12einen exponentiellen Anteilψ∼exp(−|pρ2+ (ze−zh)2|)besitzen, wobeiρund(ze−zh)den Abstand zwischen Elektron und Loch in der Filmebene bzw. senkrecht dazu darstellen. Dadurch sind die Energieeigenwerte exponenti-ell abh¨angig von der Ausdehnung des Exzitons in z-Richtung bzw. der Dicke Lz des Quantenfilms. F ¨ur den Fall eines vollst¨andigen Confinements (unendlich hohe Potenzialbarrieren), bei dem die Aufenthaltswahrscheinlichkeit des Exzi-tons ausschließlich auf den Quantenfilm begrenzt ist, ist die Bindungsenergie im Grundzustand f ¨ur Lz0 E2D1 = 4× R3Deh und f¨allt f ¨ur Lz exponentiell auf den Wert des Quantenfilmmaterials E1 = R3Deh . In der Realit¨at sind die Po-tenzialbarrieren jedoch nur endlich hoch, und die Wellenfunktionen dringen in die Barriere ein. Die Grundzustandsenergie besitzt ein Maximum, bevor es f ¨ur Lz → 0 auf den Wert E1 = (R3Deh )barr des Barrierenmaterials abf¨allt: das Exziton wird ’in die Barriere gedr ¨uckt‘. In Abb.4.1 ist der Verlauf der Grundzustands-energie f ¨ur den Fall eines (Al,Ga)As/GaAs-Quantenfilms mit einem Al-Gehalt von 30% dargestellt.