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p + Schicht eingebaut, wobei ein pp +-Übergang ent-

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Academic year: 2022

Aktie "p + Schicht eingebaut, wobei ein pp +-Übergang ent- "

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(1)

5 Übungsblatt Photovoltaik

5.1 (Back-Surface-Field)

a)

Es ist die Rekombination am Rückseitenkontakt gemeint. Dies ist eine Oberächenre-

kombination. Es existiert ein Halbleiter-Metall-Kontakt, wobei die Zustandsverteilung

bei diesemeinehohe Oberächenrekombinationsgeschwin digkei t zurFolgehat.

b)

Beim Back-Surface-Field wird eine

p +

Schicht eingebaut, wobei ein

pp +

-Übergang ent-

steht. Das resultierende Feld wirkt für die Elektronen wie eine Art Spiegel, da es eine

abstoÿendeKraftaufdiesebewirkt,estreibtdieElektronenzurückindieBasis.Dadurch

erreichen weniger Elektronen den Halbleiter-Metall-Kontakt und somit rekombinieren

auchwenigerElektron-Loch-Paare an derOberäche.

Skizze:

E F

x E

E C

E V

Die Elektronen werdenamKontakt nunzumTeil reektiert.

c)

Es besteht weiterhin die Möglichkeit der Reduzierung der Kontaktäche, somit nden

auchweniger Oberächenrekombinationen statt,dadieAnzahldieservonder Gröÿeder

Oberäche abhängig ist.

(2)

Wirnehmen eine Antireexionsschicht derDicke

d

und dem Brechungsindex

n g

auf Si-

lizium (Brechungsindex

n s ≈ 4

) und an Luft (Brechungsindex

n l = 1

) an. Die Gesam-

treexion

R

dieser Schichten in Abhängigkeit der Wellenlänge

λ

lässt sich beschreiben durch:

R = r 1 2 + r 2 2 + 2r 1 r 2 cos (2θ) 1 + r 1 2 r 2 2 + 2r 1 r 2 cos (2θ)

mit

: r 1 = n l − n g

n l + n g ; r 2 = n n g n s

g +n s ; θ = 2πn g d λ

a)

Es wird ein Reexionsminimum für eine optische Weglänge in der Antireexionsschicht

von

n g d = λ 4

angenommen. Es ist zu bestimmen, unter welcher Nebenbedingung

R = 0

wird. D.h.

R = 0 = r 1 2 + r 2 2 + 2r 1 r 2 cos (2θ) 1 + r 1 2 r 2 2 + 2r 1 r 2 cos (2θ)

mit

θ = 2πn λ g d = λ λ 4 = π 2

,somitalso:

R = 0 = r 1 2 + r 2 2 − 2r 1 r 2

1 + r 1 2 r 2 2 − 2r 1 r 2

,

Dies verschwindet also für

r 2 1 − 2r 1 r 2 + r 2 2 = (r 1 − r 2 ) 2 = 0

, dies wird durch

r 1 = r 2

erfüllt.

b)

Es ist die Dicke

d

der Antireexionsschicht für minimale Reexionsverluste in Abhän- gigkeit der Wellenlänge und des Silizium-Brechungsindexes zu bestimmen. Wir wissen

bereitsausa),dassdasMinimumfür

n g d = λ 4

angenommenwird.Dasheisst

d (λ) = 4n λ

g

.

Wirwollen nun

d

inAbhängigkeitvonderWellenlänge unddesSilizium-Brechungsindex

n s

darstellen, d.h.wirmüssen

d (λ, n s )

bestimmen. Es gilt:

r 2 = n g − n s

n g + n s ⇔ n g = (1 + r 2 ) (1 − r 2 ) n s .

Dieskönnen wireinsetzen und wirerhalten:

d (λ, n s ) = λ (1 − r 2 ) 4 (1 + r 2 ) n s

.

(3)

Es istdie Antireexionsschicht inHinblickauf Dicke

d

und Brechungsindex

n g

beieiner

Wellenlänge von

500 nm

zuoptimieren. Wirhabenina) dieNebenbedingung für

R = 0

als

r 1 = r 2

gefunden.Wirkönnen nunmit

n l = 1

und

n s = 4

schreiben:

r 1 = n l − n g

n l + n g = 1 − n g

1 + n g = n g − 4

n g + 4 = n g − n s

n g + n s = r 2

Dieskönnen wirumformen zu

n g = 2

.Nutzen wirdieBedingung

n g d = λ 4

mit

n g = 2

und

λ = 500 · 10 9 m

,soergibt sich eineDickevon

d = 6.25 · 10 8 m

.Wirbenutzennun

d

und

n g

für denFallvon

λ = 800 · 10 9 m

,wirkönnen zuerst

θ

bestimmen:

θ = 2π · 2 · 6.25 · 10 8

800 · 10 9 ≈ 0, 982 ⇒ cos (2θ) ≈ −0, 383

Hieraus folgtfür

R

(wobeiimmer noch

r 1 = r 2 = r = − 1 3

):

R = 2r 2 (1 + cos (2θ))

1 + r 4 + 2r 2 cos (2θ) = 2 1 9 (1 − 0, 383)

1 + 81 1 + 2 1 9 (−0, 383) ≈ 0, 137

0, 927 ≈ 0, 148.

Eswerdenalsoca.

15

%des

800 nm

LichtesreektiertundsindsomitReexionsverlust.

5.3 (Kontaktngeranordnung zur Wirkungsgradmaximierung)

Wirbetrachteneine

n + p

-Silizium-SolarzellemiteinerFlächevon

5×5 cm 2

,welcheamAr-

beitspunkt betrieben wird (

j A = 40 cm mA 2 ; U A = 0, 6 V ; P A = U A j A = 24 mAV cm 2

,für

25 cm 2

istdieLeistungmaximalalso:

P A = 0, 6 W

).Wirordnen

b = 30 µm

breiteKontaktnger parallel zueinanderund senkrecht zu denKantenächen derZelle an. DasZiel istes für

einenhohen Wirkungsgrad den optimalen Fingerabstand

d

zu berechnen,wobeinur der

Serienwiderstandim Emitter

R n

berücksichtigt werdensoll. Die Kontaktngerlänge be- trägt

l = 5 cm

, derFlächenwiderstand

R S = 20 cm 2

,wobei sich der Emitterwiderstand über

R n = R s d 6l

berechnen lässt, mit

d

dem optimalen Fingerabstand,der zugleichderBreite derzwi- schen zwei Kontaktngern eingeschlossenenen Emitteräche entspricht. Für den Wir-

kungsgradgilt:

η = I SC · V OC · F F

P L = I A · V A P L

Esistnunzubeachten,dassjederKontaktnger

A = l ·b = 5 ·3 ·10 3 cm 2 = 0.015 cm 2

Fläche verbraucht, die derZelle nicht mehrzur Energiegewinnung zurVerfügung steht.

DaheristdieBreitedernutzbarenFlächegegebenmit

D = l − N · b

(DienutzbareFläche

istgegebenmit

D ·l = l 2 −N · A

),wobei

N

dieAnzahlderKontakngerist.Hierausfolgt

(4)

für den Abstand der Kontaknger

d = D N = N l − b

.Für den Emitterwiderstand können wirdies jetzteinsetzen:

R n = R s

6l

l

N − b

= R s

6N − R s b 6l ,

unser Ziel ist es

N

zu bestimmen, wobei

η

in Abhängigkeit von

d

maximiert werden

soll.Es gilt

V A = R n I A

,hierausfolgt:

η = I A · V A

P L = R n I A 2

P L = R s d 6l

I A 2 P L

ableiten nach

d

und

0

setzen liefert:

∂η

∂d = 0 = R s 6l

I A 2 P L ,

wir sehensofort, dass derWeg keinsinnvollesErgebnis liefert.Anderer Ansatz

U A = R n I A ⇔ R n = U j A

A = 40 0,6 mA V = 0, 015 cm 2 .

Setzenwir

R n

ein,erhalten wir:

N = R s

6 R n + R 6l s b = 20 cm 2 6

0, 6 cm 2 + 20

cm2 30 10 −4 cm 30 cm

= 10

(1, 8 + 0.006) = 10

1, 806 ≈ 5, 54

D.h. ca.

N = 6

.Hierausfolgt dann

d = 5 6 cm − 0, 003 cm = 0, 83 cm

. Diesliefert einen

Widerstand

R n

von:

R n = 20 cm 2 0, 83 cm

30 cm = 0, 553 Ω

cm 2 6= 0, 015 Ω cm 2 .

Istalso auchfalsch,dasliegtvermutlich amAnsatz,da

U A 6= R n I A

!

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